據日經報道，日本信越化學將斥資300億日元（約2.85億美元），擴產EUV（極紫外）光刻膠、ArF（氟化氬）光刻膠、以及提升尺寸精度的多層光刻膠，以擴充對半導體關鍵材料的供應。此次實施擴產的是直江津工廠（新瀉縣上越市）和臺灣云林縣工廠。
根據報道，信越化學將會在日本和中國臺灣地區興建工廠，位于中國臺灣地區云林工廠將先完成，預計2021年2月開始量產，屆時信越化學將得以在中國臺灣地區生產可與極紫外光（EUV）光刻技術兼容的光刻膠，以滿足臺積電等臺廠客戶的需求。此次臺灣工廠不僅把多層光刻膠的產能提高50%，還實現了可以在此新生產EUV光刻膠。
日本的工廠將建在新瀉縣，預計2022年開始運作。屆時中國臺灣地區的光刻膠將增產50%，日本的增產20%，同時也會陸續招募新員工。新建的兩座工廠除了滿足中國臺灣地區和日本的需求之外，還能夠為中國大陸和韓國提供服務。
除了臺系客戶外，信越化學擴充產能也將滿足韓國、中國大陸和其他市場的客戶需求。隨著5G設備、數據中心和其他應用的芯片需求上升，光刻膠領域的需求日益旺盛。光刻膠是半導體供應鏈的關鍵材料，預計，2019年至2024年，光刻膠市場將增長60%，達到約2500億日元。
鑒于此，信越化學的競爭對手JSR和Tokyo Ohka Kogyo(TOK) 也在日本和海外生產EUV光刻膠，住友化學(Sumitomo Chemical)和富士膠片(Fujifilm)也準備進入該領域
